Fotorezist - problem

[Macros]

Kupil som na aliexprese negativny fotorezist na vyrobu DPS. Problematiku som si nastudoval a zacal testovat. Vsetko prebiehalo v poriadku az na jeden problem. Takze od zaciatku, DPS riadne ocistena a odmastena, folia bez problemov vodnou cestou nanesena a zalaminovana. Po osvite fotorezistu pekne zobrazeny obraz. A zacal som vyvolavat v predpisanej koncentracii vyvojky, neosvetleny rezist sa pekne rozpustil a zostal cisty obraz plosaku. Lenze pri leptani nastal velky problem, leptanie neprebiehalo dobre, ostavali nie uplne odleptane plochy medi. Takto sa to zopakovalo aj druhy krat po skrateni osvitu na 2 minuty. Pri naslednej vyrobe DPS som zistil, ze po rozpusteni rezistu z DPS ostava po nom velmi tenka priehladna vrstva (vypada ako lepivy film), ktora nasledne brani riadnemu odleptaniu medi z DPS. Tento tenky film sa velmi zle rozpusta a ked nechavam DPS dlhsiu dobu vo vyvojke zacne mi odpadavat aj osvetlena cast obrazca. Kde a v com robim chybu? Mal niekto podobny problem? Niekde na webe som cital o tomto probleme ale nedocital som sa v com je problem. Vdaka za kazdu radu.

[jezevec]

Ještě zkrať osvit a při vyvolání používej tužší (asi jako štětec na natírání barvou) štěteček. Vyvolávej cca 5minut.
Ten fotorezist drží na té mědi celkem dobře, tak neměj obavy s tím štětcem.

[robokop]

Já při vyvolávaní přejíždím po DPS štětcem. Tím mi problém se zbytky fotorezistu zmizel. Vývojka má předepsanou koncentraci a teplotu 30-40°C a vyvolání trvá do minuty. Při vyvolávání to také kontroluju lupou jestli tam nejsou nějaké zbytky. Pokud by to nepomohlo tak můžeš zkusit o něco zkrátit dobu osvitu.

[jezevec]

Vývojku mám pokojové teploty. Pokud ti tam ještě něco zůstane, pomůže štěteček při leptání v chloridu.

[Macros]

Pouzival som stetec, hubku, prsty ale ta tenka vrstva tam stale ostava. Tusim, ze som cas skratil na 1 minutu a nepomohlo to. Fotorezist sa pritom rozpusti, skor si myslim ze to zostava nejake lepidlo, ktore fotorezist drzi pokope. Mam podozrenie, ze tie folie su zle alebo stare a mozno laminovacka laminuje na vysokej teplote - neviem.

[Gabriel]

Mal som rovnaký problém a je to fotorezistom. Kúpil som iný, ten už bol dobrý.

[jezevec]

Ano, je to fotorezistem. Dělá to ten, co mám dlouho a uskladněný při pokojové teplotě, měl by být v ledničce. Ale vždy mě pomohlo co jsem už psal.

[petus]

Používám tohle: http://eshop.dpsk.sk/?9,dupont-riston-t215-mv3507a-(a4)
očišťuju štetcem a potom opláchnu teplou vodou...

[Macros]

Tak som si zohnal druhy fotoresist film a problem sa nadalej opakoval. Tak som googlil v zahranicnej literature a nasiel som podobne problemy. Na jednom fore som sa docital, ze teplota laminovania fotoresistu by mala byt medzi 110-130 F!!! Paradoxne na niektorych strankach uvadzaju 110°C co je sakramensky rozdiel a v tomto je problem. Takze teplota by mala byt priblizne 45-55°C!!! A este by mala byt dostatocne stabilna a nemala moc kolisat. Takze problem je zjavne v mojej jednoduchej laminovacke, ktoru budem musiet patricne upravit. Docital som sa, ze nahrievat mozeme aj teplym vzduchom a primeranym tlakom resist nalepit. A este jedna rada, teplota vyvojky by mala byt okolo 30°C. Vyskusam a dam vediet.

[Macros]

A este dodavam, ze teplota laminovacky je okolo 110°C co je pre fotoresist moc vysoka teplota!!!
Linka:
https://forum.allaboutcircuits.com/threads/project-photographic-methods-of-making-pcbs.107696/

[martin-f]

Chlapi, kde môže byť chyba? Mám prerušené cesty. Plošák je očistený práškom na riad. Fotorezist nanášam pod vodou. Vyhladím, dávam bacha na bubliny. Laminovačkou s rýchlosťou posuvu 40 cm/min. prebehnem dvakrát. Predlohu otočím smerom k spoji, zaťažím sklom a 25W UV žiarivkou (čiernou) nasvecujem 2 minúty (skúšobné plošáky vychádzali krásne pri tomto čase). Následne vyvolám vo vývojke (1liter destilky a 11 g pracej sódy) a tu je výsledok. Nejaké kazy na predlohe nemám. Cesty sú široké cca 1 mm, takže to fotocesta musí dávať s prehľadom.

[kutilmil]

pokial máš dobrú predlohu tak je problém v reziste. ja kupujem z DPSK a maximálna spokojnosť.

[martin-f]

No práveže som aj ja kúpil na dpsk.sk. Ja som si bol vedomý toho, že neurobím plošák na prvú dobrú. No bojoval som s tým 2 týždne, stálo ma to asi 30 pokusov, asi 2 metre fotorezistu a vždy sa to strhlo niekde inde.

Nakoniec som sa naštval, vykopol spod stola Positiv20 s ktorým som chcel pôvodne skoncovať (v domnení že negatívny fotorezist bude super), a s ním som spravil plošák na prvú dobrú.

Ako keď som si skúšal nejaké malé plošáky, tak to bolo ok. Ale potreboval som vyrobiť plošák, ktorý má dĺžku ako dlhšia strana A4 a šírku cca tretinu šírky A4. A pri takejto ploche som sa s tým negatívnym fotorezistom nešiel dohodnúť.

Navyše mám ten fotorezist od dpsk.sk miestami pokrčený. Tiež neviem, kde sa im to vála. Je možné že každé pokrčené miesto zhorší prilnavosť. Ako strašne rád by som fungoval s negatívom, miestami sa mi zdali niektoré cesty "presnejšie" než u Positivu. No pri tých nervoch a neistote či sa to podarí asi radšej šáhnem po Positive. Tie 4 zrnká oželiem, ale aspoň to na plošáku drží festovne.

Prikladám výsledný plošák spravený Positivom na prvý pokus. Plošák v tejto kvalite som s negatívnym fotorezistom nedokázal urobiť ani na 30 pokus. Inak tie tenšie cestičky majú 0,4 mm.

[kutilmil]

Mne fungoval negatív perfektne. Robil som s ním aj SSOP puzdrá a úplne perfektne. Osvecoval som germicídom cez obyčajné sklo. leptal som v sóde na pranie. Cestičky boli ostré ako britva.

[marcmiku]

Ahoj. mam ten isty problem ako opisoval macros vo svojom prvom prispevku. po vyvolani mi na medi ostane tenky film, ktory brani vyleptaniu. Fotorezist je z alika, vyvojka soda na pranie cca 0,8-1%.
osvecujem to uv svetlom na nechty cez naolejovany kancelarsky papier z atramentovej tlaciarne. postup je rovnaky ako vsade: laminovacka, osvit skusam od 30 sek. do 2 minut, potom vyvojka. Ake mate skusenosti vy? dakujem