Negativní fotocuprextit

Zpráva

#16 Příspěvek od **masar** » 07 srp 2011, 14:40

A tento návod ti to neříká? :wink:

#17 Příspěvek od **hafca** » 07 srp 2011, 14:56

Myslel jsem spíš praktickou zkušenost. Zvlášť když to v návodu popisují v nějaké cizí řeči, které nepříliš dobře rozumím. :cry:

Návody jsou určitě príma, ale praktickou zkušenost nenahradí. :wink:

Navíc se na strákách zmiňují o tomhle návodu jako příkladu laminace bez laminátoru. Z toho mi vychází to, že existuje nějaký postup kde je použitý laminátor.

Zmije · #18 Příspěvek od **Zmije** » 08 srp 2011, 22:52

Zatím sem suchý nezkoušel, ale nevím kdo na to máchání vodou přišel, nějak mi unika smysl.

#19 Příspěvek od **hafca** » 08 srp 2011, 23:14

Nevím jestli jsem to se svojí chabou znalostí řeči a koukáním na obrázek pochopil. Je to asi něco na způsob nalepování samolepící tapety. Tam se taky doporučuje voda a nejlíp s Jarem nebo něčím podobným. Má to být kvůli lepšímu vytlačení případných vzduchových bublin. Ale možná je to ještě z jiného důvodu.

Zmije · #20 Příspěvek od **Zmije** » 08 srp 2011, 23:20

Místo vzduchu tam pak mají souvislou vody, která se nemůže odpařit ani vsáknout. Viděl sem profi laminátor ve škole, božel jen vypnutý, připojení k vodě sem tam neviděl, ale možná mi něco uniklo.

#21 Příspěvek od **hafca** » 08 srp 2011, 23:36

Je to asi trochu jinak, tedy podle mě. Když to bude dělané laminátorem, bude to na sucho. Když se to dělá ručně, mají to s tou vodou. Pod těma tapetama taky žádná voda nezůstane, ta se vytlačí rukou nebo válečkem. Jen ty bubliny by se měly po té vodě snadněji vytlačit. Já tyhle tapety lepím bez vody a jde to taky dobře. Nevím jak to mají s tím laminátorem, jestli by se to mělo dělat za tepla, když používají horkou vodu nebo za studena. :?:

petrfilipi · #22 Příspěvek od **petrfilipi** » 11 srp 2011, 21:17

Já kupoval negativní fotorezist tady: http://shop.ebay.com/i.html?_from=R40&_trksid=m570.l2736&_nkw=photosensitive+dry+film.

Ale cena není nijak výhodná, 272 Kč za 10 kusů A4. Ale je to kus 2m dlouhý, takže když někdo chce něco delšího, tak jedině tady (možná by se domluvil s Diodou na delším kusu).

Petr

r1a2s3t4o5 · #23 Příspěvek od **r1a2s3t4o5** » 19 zář 2011, 22:54

Neviem co robim zle, ale mne ta vyvojka rozpusti aj nasvietene cesty. Pritom tie cesty vyzeraju po osvieteni rovnako fialove na celej doske.

Negativ nasvecujem 14W 20cm linearnou ziarivkou 7minut.

Predtym som nasvecoval 14W 40cm 22minut, dobrych ciest bolo viac ale takisto tam boli ostrovy, kde mi vyvojka foliu rozpustila. Dobra cesta bola po vyvolani fakt tvrda (ako nejaky plast).

Roztok vyvojky mam urcite dobry, 4g na 4dcl. Nepotrebujem vyvojku vobec zahrievat ako som niekde cital.

Na prilozenej fotke je vidiet niektore cesty ktore to prezili, ale vacsina je prec.

Moze byt problem ze nasvecujem linearnou ziarivkou a ta nema homogenne svetlo? Cim ten negativ osvecujete a ako dlho?

EDIT: tu foliu tam davam "na mokro" z horucou vodou, folia sa na plosak hned lepi a zatuhne celkom silno. Ak zistim ze uz plosak nebol dost teply, tak to dorazim zehlickou nahriatou asi na 80C.

GeorgeB · #24 Příspěvek od **GeorgeB** » 20 zář 2011, 07:15

Nejdřív bych zkusil na malém kousku test doby osvitu. Obrazec přiložit k fotovrstvě a černou fólii přes to posouvat každých 30sekund o jedno políčko. Pak to zkusit vyvolat ve slabší vývojce.

r1a2s3t4o5 · #25 Příspěvek od **r1a2s3t4o5** » 20 zář 2011, 20:44

pripajam test vzorec ktory som pouzil ako predlohu

a vysledok pri pouziti asi 50% slabsieho roztoku vyvojky.

doba osvitu 8W ziarovkou z 20cm bola 4min az 14minut, cize dvojnasobne casy.

Na plosaku vidno nieco ako skvrny, kde ten polymer odleptalo uplne.

Cim to moze byt?

GeorgeB · #26 Příspěvek od **GeorgeB** » 21 zář 2011, 07:21

Předesílám, že s negativním fotorezistem nemám zkušenosti. Ale podle fotek mi přijde, že vrstva fotorezistu je málo přilnutá k měděné vrstvě. Není problém již při nanášení fotorezistu? Folii si nanášíš sám nebo používáš desky s již nanesenou fotovrstvou?

r1a2s3t4o5 · #27 Příspěvek od **r1a2s3t4o5** » 21 zář 2011, 09:56

Ako som pisal...
tu foliu tam davam "na mokro" z horucou vodou, folia sa na plosak hned lepi a zatuhne celkom silno. Ak zistim ze uz plosak nebol dost teply, tak to dorazim zehlickou nahriatou asi na 80C.

GeorgeB · #28 Příspěvek od **GeorgeB** » 21 zář 2011, 10:30

A jaká je čistota mědi před nanesením fotorezistu? Fleky na poslední fotce v prostřední části vlevo nasvědčují mastnotám..? Je odmaštěná plocha? Ještě další otázka: při vyvolávání se fotorezist všechen rozpustí rovnoměrně nebo i částečně "odpadává"? Co zkusit případně začít na deskách s fabricky naneseným fotorezistem?Tam vyzkoušet tu sovitovou dobu a sílu vývojky.

r1a2s3t4o5 · #29 Příspěvek od **r1a2s3t4o5** » 21 zář 2011, 13:47

dalsim testom bude:

vycistit med dokladne pred nanesenim fotorezistu, , tzn:
Louh (odstrani zbytky fotorezistu)
Cif ( vybrusi povrch do hladka)
isopropyl alkohol (odstrani mastnotu)

a pouzitie gumennych rukavic aby som nenamastil fotorezist od spodu pri nanasani

skusim po naneseni fotorezistu mokrou cestou, hodit to cele do rury vyhriatej na 130C na 5 minut aby sa odparil zvysok vody, ktory by tam uz ajtak nemal byt.

R.

frantajetel11

Já teda s negativem taky ještě nedělám...
Nemohlo se ti stát, žes tam ten fotorezist dal obráceně - jako naruby. Nevim, jestli je to možný, ale podle toho návodu to asi možný je, když před tím varujou. :lol:

P.S. Vyčistit měď dokonale, by mělo bejt automatický, ať na ní budeš nanášet cokoliv :wink: